光刻机用UV光源，其通过特殊光学设计发射出接近平行光的UV平行光，使特定波段的紫外线通过掩膜掩孔对集成电路高精密线路完成蚀刻曝光显影的工作。曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。k8.com(中国区)官方网站为半导体行业提供两种光刻机曝光光源，汞灯平行光源和LED平行光源。其中LEDUV光源的冷光源特性又规避了菲林的通胀，对其良率有很大的提升。
LED（光刻机）平行光源
应用领域：
半导体晶圆光刻和高精度PCB板曝光等。以LED单波段或混合波段作为光源，采用了阵列光学镜片整形后，输出均匀的平行光组成面光源（矩形或者特定形状光斑），实现波长365nm的紫外光（313nm或者405nm、435nm混合光），光束垂直照射于半导体光刻机掩膜板进行芯片光曝光，光能利用率高，光强分布均匀。
规格及参数
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